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作者: 阿里克斯    时间: 2025-9-18 22:14
中芯国际正测试一台采用浸没式技术的28纳米中国国产深紫外光刻机（DUV），并将利用“多重曝光技术”生产7纳米晶片，也可能以较低的良率生产5纳米晶片，但无法进一步推进到更先进制程。

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作者: pwrln    时间: 2025-9-18 23:31
上半年的事了吧，有个疑问，这种不给卖的东西自己捣鼓，那些专列涉及的技术能不能用？

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作者: 数码爱好者    时间: 2025-9-18 23:37
好像也是从台湾挖人来的技术。

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作者: 雷斯林    时间: 2025-9-19 07:18
英国《金融时报》先爆的，别忘了02专项该项目的核心任务在于攻克45至22纳米范围内的关键制造设备技术，开发32至22纳米互补金属氧化物半导体（CMOS）工艺和90至65纳米特色工艺，同时进行22至14纳米的前瞻性研究，旨在建立65至45纳米级别的装备、材料、工艺配套体系，以推动集成电路制造产业的发展还没过的。这时跨越式开发直接搞出来能干5纳米，7纳米的机子。至于02专项为什么没过，传闻是机子是攒出来了，但核心器件太多进口货。
所以这条消息适合炒股而已。

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作者: genius    时间: 2025-9-19 07:34
本帖最后由 genius 于 2025-9-19 07:41 编辑

没加定语完全,自主研发等字

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